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半导体加热远红外技术的应用
来源:食品科学网 阅读量: 150 发表时间: 2017-06-07
作者: 徐景福
关键词: 远红外加热技术; 远红外技术; 红外元件; 多晶半导体; 辐射距离; 发热元件; 辐射器; 碳化硅; 半导体材料; 烘道;
摘要:

我国最早应用远红外技术是在1958年,当时使用远红外灯泡。1966年开始推广使用氧化镁管和碳化硅板辐射源。1974年引进远红外加热技术后,各有关单位进行了大量的研制、试验和推广工作,取得了明显的效果。其后,国家有关部门组织了产品的定点、标准化、系列化生产。这对我国在远红外加热技术的应用起了很大的促进作用。

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