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新型分子印迹聚合物修饰的选择性离子源结合电喷雾电离质谱快速检测莠灭净和莠去津
来源:食品科学网 阅读量: 148 发表时间: 2022-10-24
作者: 马洪悦,杨敏莉,张峰,杨丙成,章飞芳
关键词: 莠灭净;莠去津;分子印迹聚合物;敞开式质谱离子源;电喷雾电离质谱
摘要:

基于分子印迹聚合物修饰铁片(molecularly imprinted polymer modified iron sheet,MIPIS)制备了一种选择性的敞开式质谱离子源,结合电喷雾电离质谱,构建一种快速检测食品基质中莠灭净和莠去津痕量残留的方法。分子印迹聚合物以氰草津为模板,使用甲基丙烯酸和苯胺在水溶液中聚合而成。将MIPIS作为萃取尖端对豆奶粉、小麦和牛奶中的莠灭净和莠去津进行富集,随后作为敞开式质谱离子源结合电喷雾电离质谱直接进行检测。结果显示,在0.2~200 μg/L范围内线性良好,相关系数R2为0.998 2和0.999 7,检出限和定量限分别为0.2~0.5 μg/kg和0.6~1.5 μg/kg,在3 个加标水平下回收率在81.05%~109.66%。该方法操作简单,灵敏度高,省时高效,无需长时间的色谱分离,适用于食品中痕量三嗪类农药残留的快速检测。

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